Назначение процесса

Применяется для предварительной обработки поверхности перед нанесением жидкого или сухого пленочного фоторезистов.

На рисунках показаны механизмы обычного и модифицированного микротравления. В модифицированном микротравителе раствор травит не только вглубь, но и по границам зерен кристалла, что обеспечивает увеличение общей площади поверхности, необходимой для хорошей адгезии.

Обычное микротравление на основе персульфата натрия и серной кислоты. Атомно-силовая микроскопия 20х20 мкм.
Модифицированное микротравление. Атомно-силовая микроскопия 20х20 мкм/
Стадии процесса

ММТО-1231 — Очиститель-микротравитель.

Используется для предварительной обработки, эффективно удаляет с поверхности меди все виды загрязнений: органические, оксидные, отпечатки пальцев. Составляется из двух концентратов ММТО-1231А и ММТО-1231Б.

ММТО-1232 – Модифицированный микротравитель.

Модифицированный микротравитель создает равномерный микрорельеф высокого порядка, обеспечивая максимальную адгезию фоторезиста к медному покрытию.

Преимущества процесса ММТО-1230

• превосходная микрошероховатость медной поверхности, которая обеспечивает
максимальную адгезию поверхности перед нанесением сухого пленочного фоторезиста;
• низкотемпературная обработка;
• простой контроль раствора. Корректировка осуществляется в соответствии с результатами анализа;
• может использоваться как погружным, так и струйным способами;
• эффективен для изготовления прецизионных печатных плат.